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      UV8220-3D-600紫外動態聚焦

      UV8220-3D-600動態聚焦系統采用先進的光學設計方案和線性傳動的Z軸系統,擁有自主知識產權,集成了數據采集、數據處理、電子控制、機械隨動、光學成像、光學補償、光學掃描等功能。系統采用整體式結構,體積小、密封性好,確保長時間工作狀態下的穩定性。


      UV8220-3D-600動態聚焦掃描系統適合于大范圍激光標刻、切割、鉆孔、激光微細加工、三維應用、激光快速成型等,可對金屬、塑料、玻璃、瓷磚、大理石、玉石、水晶等各種材料進行加工。

      UV8220-3D-600型振鏡具有體積小、定位精度高、打標速度快、抗干擾能力強等特點,在動態打標過程中線條精度高、無變形、功率均勻、圖案無失真,綜合性能達到同行業水準,具體特性如下:

      ■ 采用MM3D軟體系統,支持多種文件格式和矢量圖、3D模型、位圖以及文本條碼匯入,簡單易懂、操作親和力強、容易上手。

      標刻幅面最大支持600×600mm,最大標刻高度落差達到150mm。

      ■ 整個系統采用電磁兼容優化設計,信噪比高、抗干擾能力強。

      ■ 精密控制打標機的焦距位置,當進行3D深度打標加工時自動調整Z軸范圍,保持光斑最小化,保證物體打標后圖形的效果一致性。

      ■ 針對第三軸(聚焦軸)光學鏡片進行精確負載設計,電機裝配精度高、結構合理、靜摩擦系數和零位偏移量小,確保聚焦系統良好的動態特性。


      激光器

      355nm紫外激光器

      入射光斑要求

      6.5mm

      X&Y軸鏡片光斑

      20mm

      速度

      標記速度

      2000mm/s

      寫入速度

      124cps

      階躍響應時間(全行程1%

      708us

      階躍響應時間(全行程10%

      1320us

      跟蹤誤差

      ≤374us

      精度及誤差

      線性度

      99.9%

      重復定位精度

      <8μRad

      增益誤差

      <5mRad

      零點偏移(批量原點誤差)

      <5mRad

      長時間漂移(連續工作8小時)

      <0.5mRad

      比例漂移

      <40PPM/

      零點漂移

      <15μRad/

      電源及信號

      輸入電壓

      ±24VDC

      額定電流

      4A

      接口協議

      XY2-100   

      機械掃描角度

      ±12.5°

      工作溫度、尺寸

      工作溫度

      0~45

      存儲溫度

      -10~60

      振鏡尺寸(長×寬×高)

      338X126X154mm


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